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中芯国际申请测试结构及测试方法专利, 提高测试结构的测试性能

发布日期:2025-06-25 05:56    点击次数:94

  

金融界2025年6月21日消息,国家知识产权局信息显示,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“测试结构及测试方法”的专利,公开号CN120184146A,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,一种测试结构及测试方法,结构包括:基底,所述基底包括切割道区;测试信号加载单元,位于所述切割道区的基底顶部,所述测试信号加载单元包括多个测试信号加载端,多个所述测试信号加载端沿第一方向和第二方向呈矩阵间隔排布,所述第一方向和第二方向相垂直;待测器件结构,位于所述测试信号加载单元的外围区域的基底顶部,所述待测器件结构与所述测试信号加载单元电连接。

天眼查资料显示,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,成立于2000年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目127次,财产线索方面有商标信息150条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可442个。

本文源自:金融界



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